某半导体器件制造出公司因晶圆除污工作带来含氨工业废水，储水量200吨/天。工业废泥中除高锰酸盐指数外还有效氟化物和氢化物发生器高价属，净化处理强度大。当地的污染物规格想要高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺组成成分及从何而来 晶圆擦洗生产废水（包括由来）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程污水：含进样器铜、镍等天价属，pH值波动性大 CMP粉磨生产废水：含硅小粒及氟化物 进行处理的工艺步奏 应用"化学上的结晶+膜分割+折点氯化"搭配组合工艺设计： 处理过程 ：污泥脱水CaCl2除氟，管控pH在7.5-8. 反渗透膜系统化 ：避开0.01μm综上所述粒子物 反固化浓缩液 ：将高锰酸盐指数浓缩造成至1000mg/L上面的 折点氯化 ：明确调控氯添加量，将氯离子转为为N2 正离子交易 ：确保巨资属达到标准 最后成效 化学需氧量不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含碳量不高于监测限 水造纸废水处理率达75% 生活污水出现量减掉40%