该厂为國际当先的办理芯片芯片封装测式中小型企业，产量过程中 中带来大量的含氟废污水（平均600吨），原始办理公用设施是没办法做到新制定的《光学工业化水被污染的物排放细则细则》中氟化物≤5mg/L的追求，需对其进行技術创新。 废气性状分析一下 焦化废水一般的污染指数： 氟阴离子有机废气浓度下降大（200-1500mg/L） 含硅酸盐、聚磷酸盐等打扰有机物 pH值呈烧碱溶液性（2-4） 科技创新处理工学院艺 选择"三级分销钙水解+铝盐升星"三人组合新工艺： 特一级处里 ： 石粉乳结合至pH7-8，进行CaF2滤渣 加药氯化钙提高认识Ca:F摩尔比≥1. 三级操作 ： 移除配位聚铝（PAC）开始斜管沉淀池 斜板沉定池HRT构思为2.5钟头 三级职业资格证书处置 ： 活性氧硫化铝溶解柱深度1除氟 pH回调函数系统性保障水流维持 至关重要技艺科技创新点 规划设计了在线播放氟正离子监测方案反映操作系统，手动调控的药剂污泥脱水量 使用废水流失技术水平降低石灰石的使用量30% 沉定生活污水经压滤后氟化物固定不动率＞99.5% 自动运行预期效果 进行处理后设计进行处理代价大大减少至8.5元/吨水，常见指標： 氟化物≤3mg/L（最低的排除1.2mg/L） SS≤10mg/L 污泥处理含水量率≤65% 产品获得了省级重点化工废渣清理出众项目奖。